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用于沉积处理期间掩蔽基板的掩蔽布置、用于在基板上的层沉积的沉积设备、和用于清洁掩蔽布置的方法

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提供一种用于在沉积处理期间掩蔽基板(10)的掩蔽布置(100)。掩蔽布置(100)包含一个或多个表面区域(130)，所述一个或多个表面区域(130)被配置为在沉积处理期间暴露于材料沉积源，其中所述一个或多个表面区域(130)被至少部分地涂布有焊料(140)。

著录项

公开/公告号CN107109619A

专利类型发明专利
公开/公告日2017-08-29

原文格式PDF
申请/专利权人应用材料公司;
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申请/专利号CN201480084402.2
发明设计人安德里亚斯·索尔;安拉贝拉·霍夫曼;
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申请日2014-12-29
分类号
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 03:12:05

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-04-03

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/04 申请公布日:20170829 申请日:20141229

发明专利申请公布后的驳回
2017-09-22

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20141229

实质审查的生效
2017-08-29

公开

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