公开/公告号CN107045258A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-08-15
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市科利德光电材料股份有限公司;
申请/专利号CN201710117404.2
发明设计人 谢庆丰;
申请日2017-03-01
分类号G03F1/38(20120101);
代理机构44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人赵勍毅
地址 518118 广东省深圳市龙岗区宝龙工业区宝龙大道8号2号厂房3楼
入库时间 2023-06-19 02:59:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/38 申请日:20170301
实质审查的生效
2017-08-15
公开
公开
机译: 清洁与光罩相关的基质的方法,清洁方法和装置,其提供了一种能够去除与光罩相关的基质表面上的硫离子的清洁溶液。
机译: 一种生产有机乳化剂和有机表面活性剂的方法,采用所述方法生产的产品以及此类产品的使用
机译: 一种生产有机乳化剂和有机表面活性剂的方法,采用所述方法生产的产品以及此类产品的使用