公开/公告号CN106921111A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-07-04
原文格式PDF
申请/专利权人 成都光创联科技有限公司;
申请/专利号CN201710102175.7
发明设计人 许远忠;
申请日2017-02-24
分类号H01S5/06;
代理机构
代理人
地址 610000 四川省成都市高新区云华路333号7栋1层1号
入库时间 2023-06-19 02:46:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-17
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01S5/06 申请公布日:20170704 申请日:20170224
发明专利申请公布后的驳回
2017-07-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/06 申请日:20170224
实质审查的生效
2017-07-04
公开
公开
机译: 不对称图案的光学邻近修正模型形成方法,能够通过光学邻近修正将实现在临界尺寸上的晶片上实现的实际临界尺寸近似均衡
机译: 半导体激光器件远场图形的检测方法
机译: 调整光电器件中二维空间增益分布的方法及其在定制增益宽广域半导体激光器中的应用,该激光器可在非常窄的单瓣远场图案下进行高功率工作