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激光直接成像曝光机用聚焦结构及聚焦方法

摘要

本发明涉及一种激光直接成像曝光机用聚焦结构及聚焦方法,其包括曝光平台以及位于所述曝光平台正上方的投影物镜;所述曝光平台包括用于承载待曝光板体的吸盘,所述吸盘与用于所述驱动吸盘升降的吸盘升降驱动机构连接;在所述投影物镜的一侧设有聚焦光源,投影物镜的另一侧设置用于接收聚焦光源经过待曝光板体后投影光线的光线探测器,所述光线探测器与吸盘升降驱动机构连接,光线探测器根据投影光线的状态能控制吸盘升降驱动机构的工作状态,直至使得吸盘上的待曝光板体处于最佳焦面位置。本发明结构紧凑,能有效实现曝光成像的聚焦,避免投影物镜的损坏,安全可靠。

著录项

  • 公开/公告号CN106814554A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡影速半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN201710132090.3

  • 发明设计人 李显杰;

    申请日2017-03-07

  • 分类号G03F7/20;

  • 代理机构无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人殷红梅

  • 地址 214135 江苏省无锡市新吴区太湖国际科技园菱湖大道200号中国传感网国际创新园F3

  • 入库时间 2023-06-19 02:27:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-15

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20170609 申请日:20170307

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-07-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20170307

    实质审查的生效

  • 2017-06-09

    公开

    公开

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