露光機のフォーカス精度測定方法の開発

摘要

近年半導体デバイスの急速な高集積化に伴い，フォトリソグラフィ技術では露光波長の短波長化，露光投影レンズの大口径化（レンズの高開口数化）だけでなく，位相シフトマスクや光近接効果補正技術，露光照明条件の工夫等のさまざまな超解像技術を駆使して微細パターンの形成を実現している。 現在では，露光波長248 nmのKrF エキシマレーザ光を露光光としたフォトリソグラフィプロセスで，130 nmレベルのパターン形成を可能にしている。 今回我々はフォーカス自動測定技術を用い，KrFスキャナ型露光機における微小なフォーカスエラーを高精度かつ簡便に測定する技術を独自に開発したので報告する。