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一种光学薄膜特性之间相关性的确定方法

摘要

本发明公开了一种光学薄膜特性之间相关性的确定方法,该发明的特点是通过使用统计数学的相关性分析技术,不限于特定的薄膜工艺实验设计,将同种工艺制备的薄膜特性测试结果进行分析,可得到薄膜两种特性之间的相关性。本方法对于光学薄膜特性之间相关性的分析具有普适性。

著录项

  • 公开/公告号CN106556572A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津津航技术物理研究所;

    申请/专利号CN201611000844.1

  • 申请日2016-11-14

  • 分类号G01N21/41;

  • 代理机构中国兵器工业集团公司专利中心;

  • 代理人刘东升

  • 地址 300308 天津市东丽区空港经济开发区中环西路58号

  • 入库时间 2023-06-19 01:53:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N21/41 申请公布日:20170405 申请日:20161114

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2017-05-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/41 申请日:20161114

    实质审查的生效

  • 2017-04-05

    公开

    公开

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