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基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法

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本发明属于磁性氧化物薄膜生长技术领域，具体涉及一种基于石英衬底的掺杂钇铁石榴石薄膜脉冲激光沉积方法。本发明通过控制靶材与基底间距离4‑8cm、基底温度550℃‑750℃、氧压5‑10Pa、激光频率2‑10Hz、沉积后薄膜退火温度700‑850℃及保温时间10‑30min等参数，可以制备出高品质的磁光薄膜。在1550nm的光通信波段，在SiO

著录项

公开/公告号CN106498352A

专利类型发明专利
公开/公告日2017-03-15

原文格式PDF
申请/专利权人哈尔滨理工大学;
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申请/专利号CN201611014033.7
发明设计人沈涛;代海龙;
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申请日2016-11-18
分类号C23C14/34;C23C14/08;C23C14/58;
代理机构
代理人
地址 150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号
入库时间 2023-06-19 01:44:06

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-10-08

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/34 申请公布日:20170315 申请日:20161118

发明专利申请公布后的驳回
2017-04-12

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/34 申请日:20161118

实质审查的生效
2017-03-15

公开

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