用于产生亚衍射限制特征的光刻系统和方法

摘要

本发明提供用于近场光刻的系统和方法，其利用表面等离子体共振来实现对超过衍射限制的图案特征的成像。实例性近场光刻系统包含等离子体超透镜模板，所述等离子体超透镜模板包含多个待成像到光敏材料上的不透明特征和金属等离子体超透镜。所述不透明特征和所述金属超透镜由聚合物间隔物层分离。光传播穿过所述超透镜模板以在所述超透镜的另一侧上形成所述不透明特征的图像。包含固体或液体材料的中间层插入在所述超透镜与涂布有光致抗蚀剂的半导体晶片之间，以减少由所述超透镜模板与所述涂布有光致抗蚀剂的半导体晶片之间的接触造成的损害。