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一种基于磁电效应的铁电/铁磁复合薄膜的磁电存储元件

摘要

一种基于磁电效应的铁电/铁磁复合薄膜的磁电存储元件,在Pt/Ti/SiO2/Si复合衬底上依次沉积铁电和铁磁薄膜制成叠层结构,具有压电效应的铁电薄膜化学结构式为0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O3?0.5(Ba0.3Ca0.7)TiO3(BZT?BCT),具有磁致伸缩效应的薄膜为Fe0.7Ga0.3;其制备方法是铁电陶瓷薄膜利用射频磁控溅射制备,铁磁薄膜利用直流磁控溅射制备。本发明的优点是:该存储元件具有非易失性、在外加电压时能够保持极化和磁化的状态,功耗低;该存储单元在室温下具有良好的铁电、压电和铁磁性能,在外加偏置电压为20V获得最大的电场控制磁电阻效应6%。

著录项

  • 公开/公告号CN105720188A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津理工大学;

    申请/专利号CN201610119109.6

  • 申请日2016-03-03

  • 分类号H01L43/08(20060101);H01L43/10(20060101);H01L43/12(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/18(20060101);

  • 代理机构12002 天津佳盟知识产权代理有限公司;

  • 代理人侯力

  • 地址 300384 天津市西青区宾水西道391号天津理工大学主校区

  • 入库时间 2023-12-18 15:49:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-09-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L43/08 申请公布日:20160629 申请日:20160303

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-07-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/08 申请日:20160303

    实质审查的生效

  • 2016-06-29

    公开

    公开

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