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用于超高真空系统的可控低温汞蒸气源

摘要

一种用于超高真空系统的可控低温汞蒸气源。汞杯底部与多级半导体制冷片(TEC)顶部粘接,TEC底部与热沉顶部粘接,热沉通过通水法兰安装在超高真空系统上。汞杯侧壁粘有温度传感器,温度传感器和TEC通过Feedthrough与外部实现电气连接。汞杯中盛有单质汞,汞蒸气可扩散到整个真空系统内部。本发明实现对超高真空系统内部汞蒸气密度的控制。TEC通电时,汞杯得到制冷,产生热量传递给热沉,冷却水通过通水法兰进入热沉内部带走热量。由于温度降低,汞杯内的单质汞对应的饱和蒸气压降低,从而使真空系统内汞蒸气密度降低。温度传感器可检测汞杯温度,控制TEC电流即可控制系统内汞蒸气密度。

著录项

  • 公开/公告号CN105698151A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610016143.0

  • 申请日2016-01-11

  • 分类号F22B3/00;

  • 代理机构上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人张泽纯

  • 地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱

  • 入库时间 2023-12-18 15:37:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-27

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):F22B3/00 申请公布日:20160622 申请日:20160111

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):F22B3/00 申请日:20160111

    实质审查的生效

  • 2016-06-22

    公开

    公开

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