法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-07-10
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A47B47/04 申请公布日:20160601 申请日:20141009
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-11-16
实质审查的生效 IPC(主分类):A47B47/04 申请日:20141009
实质审查的生效
2016-06-01
公开
公开
机译: 具有集成的磁性元件的半导体器件及其制造方法,该集成的磁性元件具有防止金属污染的阻挡结构
机译: 具有集成的磁性元件的半导体器件,该器件具有抗金属污染的阻挡结构,并且具有制造能力
机译: 用于在等离子体CVD涂覆工艺中涂覆衬底的设备具有金属导电元件,该金属导电元件具有预定电势,该金属导电元件布置在衬底与等离子体之间的暗室中