具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供一种具有防涡流腔室的基板处理装置及基板处理方法，其中使覆盖腔室主体的上部的盖体升降，从而通过腔室主体的上部而实现基板的投入和搬出，据此可以防止腔室主体的内侧产生工艺气体的涡流。为此，本发明的基板处理装置包括：腔室主体(100)，内部具有用于安置基板(W)的载放座(400)，且上部开放；盖体(200)，用于开闭所述腔室主体(100)的开放的上部；盖体开闭驱动部(300)，提供驱动力，该驱动力使所述盖体(200)沿上下方向移动以开闭所述腔室主体(100)的上部。