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施加压力控制纳米孔中离子传输选择度的方法

摘要

本发明公开了一种施加压力控制纳米孔中离子传输选择度的方法,在纳米孔水库系统的一端施加电压的同时施加压力,利用小面积下施加一定压力产生的巨大压强来有效控制和提高离子传输的选择度。本发明利用巨大的压强促进纳米孔中离子快速流动,通过电压对流动的离子进行筛选,从而获得较高的离子选择度,与单纯电压对离子选择度的控制相比,压力对离子选择度的控制不受溶液pH值和浓度的制约,且方向单一、速度可调,更加灵活可控。

著录项

  • 公开/公告号CN105573359A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN201510916209.7

  • 发明设计人 单惠霞;曾振平;桂林卿;季晓旭;

    申请日2015-12-10

  • 分类号G05D16/20;

  • 代理机构江苏楼沈律师事务所;

  • 代理人史成涛

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2023-12-18 15:07:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G05D16/20 申请公布日:20160511 申请日:20151210

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G05D16/20 申请日:20151210

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    公开

    公开

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