用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫

摘要

本发明涉及一种用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫(1)，所述衬垫包括三个部件，即通过紧固系统连结在一起的上部件、中间部件和下部件，其中，具有截头圆锥形形状的所述上部件(2)包括吸收孔(7)和中心孔(8)，其特征在于，所述中间部件(3)包括吸收狭槽(5)、中心孔(8’)以及在背面的由突起壁(10)界定的一些吸收通道(6)；具有截头圆锥形状的下部件(4)包括狭槽(5)和中心孔(8”)以及布置在同心的且其间等距离的环中的一些吸收狭槽(11)，所述中间部件(3)将接合在所述下部件中，每一个狭槽(11)的尺寸从中心至外周增大。

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫，该衬垫允许 在孔相对于衬垫的狭槽不对准的情况下将盘放置在衬垫中。其中，保 证盘的其余孔与设计成配合以便吸收的狭槽相配合，从而有助于将盘 放置在衬垫中。

发明内容

本发明所描述的用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫设计为满足以 下原理：

-设有同心环且同心环之间是等距离的，以便确保在衬垫的整个区 域上均匀的吸收；

-在每个前述同心环中，形成其间等距离的狭槽，以便保持吸收区 域均匀；

-每个同心环中的狭槽的宽度被设计成，使得不管可能出现的盘的 外部孔相对于衬垫的外部狭槽的不对准如何，都确保盘的内部孔仍然 与相应的狭槽相配合。从而实现附图中所示的狭槽的宽度(这允许优 化狭槽的面积)，避免它的尺寸过大以及随之而来的在每个狭槽/孔中 的空气的速度和流率的降低，并始终确保孔与狭槽相配合以便更有效 地去除由砂磨所产生的粉尘和颗粒。

-从衬垫的每个环至它的中心的距离和每个环之间的距离设计成， 使得市场上可用的传统盘上设有的孔能够与目前的衬垫一起使用，保 持所有的孔与衬垫的狭槽相配合或部分地配合。

-环或狭槽各自彼此之间的等距离以及在每个环中的狭槽的宽度 允许通过仅仅将任一孔与狭槽相配合而将盘容易地放置于衬垫上，因 而避免了寻找任何特定位置来确保盘的孔与衬垫的狭槽相配合的操 作。当前系统/构思还可用于具有75mm至225mm直径的衬垫/砂磨 盘，并且盘中孔的数量、同心环的数量、狭槽的数量以及它们彼此之 间的距离可以变化，以便保持由砂磨所产生的粉尘的吸收/去除的有效 性并且始终遵守以上关于环或狭槽两者各自彼此之间的等距离所限定 的原理。

-狭槽的尺寸使得能够使用没有孔的盘，从而在不平表面的砂磨过 程期间给予盘更大的稳定性。

-为了优化空气在衬垫的内部部分中的流动，已经开发出各种型式 的衬垫并进行了测试，以实质上在它们内部的通道构造方面优化其中 的空气流动。就算去除衬垫的内部区域(其为粉尘的最大聚积区域) 上的粉尘更加困难，衬垫内侧上的吸收通道的设计也允许更大效率地 去除那些区域中的砂磨粉尘，在形成于该衬垫中的较小同心环中最精 确。原理是(衬垫内部)设置与狭槽的每个同心环相配合的吸收通道， 其中，这些吸收通道的每一个可直接连接或不连接至其它吸收通道。 这些吸收通道可形成在泡沫的内部部分上或可形成在将衬垫紧固至机 器的刚性区域的内部部分上。

现有技术

相对于现有技术的已知多孔系统，本发明中所描述的用于多孔砂 磨盘的具有狭槽的衬垫的优点如下：

-存在不要求孔相对于衬垫对准的系统，并且多孔盘的大多数孔不 与衬垫中的孔相配合。在这些情况下，还可以使用盘的其他孔组，但 是仅限于市场上已经存在的几种类型。这应用于想要始终保持盘的所 有孔与衬垫的孔相配合的情况。在本发明的情况下，通过仅有一个孔 与狭槽对准，可以确保所有其它孔(被设定成与狭槽相配合的那些孔) 都与狭槽对准。相对于市场上存在的盘的其余孔组，大多数和最显著 的可与带有狭槽的衬垫一起使用，确保孔与狭槽(全部或部分地)相 配合。

-存在要求盘中和衬垫中存在的一个或多个特定孔对准的多孔系 统，使得盘的其余孔与衬垫的所有孔都相配合。在本发明的情况下， 在衬垫的任何狭槽处的可以为盘的任何孔，确保其余孔(其被设定成 与狭槽相配合)的配合。本发明的重要优点是不必转动盘/衬垫直到找 到这样的特定孔。

-存在如前面段落中所描述的多孔系统，除了多孔盘之外，该多孔 系统允许使用市场上已知的其它孔组，然而，在具有15个孔的盘的孔 组的情况下，要求盘的2或4个特定孔对准，以使得其余孔与衬垫的 孔对准。

本发明中所描述的用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫可在衬垫上 通过任何孔对准，确保其余狭槽的全部或部分地配合。

附图说明

下面参照附图进行描述，这些附图仅用于参照给出，不用于任何 限制性，在附图中：

图1-3是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的等距视图；

图4是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的下部件的正面视图；

图5是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的下部件的背面视图；

图6是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的下部件的背面视图；

图7-9是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的中间部件的背面视 图；

图10是用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫的上部件的背面视图；

图11是具有56H+1孔的多孔砂磨盘的俯视图；

图12是具有21F+1孔的多孔砂磨盘的俯视图；

图13是具有15个孔的砂磨盘的俯视图，其中衬垫与多个孔相应 地不对准；

图14是具有56+1孔的多孔砂磨盘的俯视图；

图15是具有80+1孔的多孔砂磨盘的俯视图；

图16是具有15个孔的砂磨盘的俯视图。

附图标记说明

衬垫(1)

上部件(2)

中间部件(3)

下部件(4)

中间部件的狭槽(5)

通道(6)

上部件的孔(7)

中心孔(8)

凹槽(9)

突起壁(10)

下部件的狭槽(11)

位于中间部件的同心环上的孔(12)

位于同心环上用于借助于相应接合和胶合将中间部件紧固至上部 件的等距离的孔(13)

本发明的详细描述

用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫有效地实现了砂磨材料去除的 改善，该去除的改善表现为当与本发明中所描述的衬垫一起使用时砂 磨衬垫和盘的周边上不存在粉尘聚积。

本发明涉及一种用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫，该衬垫允许 在孔相对于衬垫的8mm的狭槽不对准的情况下将盘放置在衬垫中。 这确保了盘的其余孔与相应狭槽(其已经被设定成配合以便吸收)相 配合，从而有助于盘在衬垫中的放置。

当在衬垫上使用盘时(在当前情况下，是利用夹持型紧固系统)， 众所周知的是，由于机器的转动以及在盘和被砂磨的材料之间发生的 摩擦而在砂磨过程期间发生运动。该运动导致在孔的配合中出现不对 准。衬垫/盘具有的孔越多以及它们的直径越小，不对准就越明显，达 到(在砂磨过程期间)盘的孔不与衬垫的孔相配合的临界情况，妨碍 砂磨粉尘的去除并且在衬垫上聚积过多的所述粉尘。在本发明的情况 下，如果孔在相应的狭槽中合适地对准和对中，如图11所示，上述技 术问题将不会发生，因为盘将能够向任一侧转动运动大约4mm(在 盘具有孔组56H+1的情况下)，并且孔与狭槽的配合将保持，如图11 所示，从而保持有效吸收，防止衬垫上在孔的区域中聚积过多的粉尘。

在盘具有孔组20H+1的情况下，盘将能够向任一侧转动运动大约 2.5mm，如图12所示，并且盘的孔相对于狭槽的配合将保持，然而， 如果该运动较大时，因为孔的尺寸为8mm，也绝不会发生全部不对 准。换言之，甚至当该运动较大时，至少将保持部分配合，从而将始 终确保灰尘去除，如图12所示。

为了在具有狭槽的衬垫中放置多孔盘，对于具有孔组56H+1的盘 来说，如图11所示，仅仅需要将盘的任一孔与衬垫的任一狭槽对准， 其中盘的其余孔将始终与衬垫的所有狭槽(其被设定成配合以便吸收) 相配合。在孔组20H+1的情况下，盘的所有孔都将与衬垫的狭槽相配 合，如图12所示。

为了使盘的整个区域具有均匀的吸收且不妨碍每个狭槽中的空气 速度的减少，已决定不增加狭槽的数量，然而，盘的孔被设定成不与 狭槽相配合，但是由于更靠近的狭槽所引起的空气流动的缘故，通过 这些孔确保了有效的吸收。在具有孔组20H+1的盘的情况下，不管盘 相对于衬垫的位置如何，盘的所有孔都始终与衬垫的狭槽相配合，如 图12所示。

在上述如图11所示的不相配合的孔中发生的吸收在由砂磨产生 的颗粒比某一尺寸大的情况下可能是不充足的，在这种情况下，根据 图14-15，衬垫可设计成具有80个狭槽，这些狭槽与盘56H+1或80H+1 的所有孔相配合。在盘20H+1的情况下，该技术问题将不会发生，因 为不管盘如何放置，所有孔都始终与狭槽相配合，如图12所示。

由于衬垫的几何形状和狭槽的尺寸使得吸收系统流率低，保证了 每个狭槽中特定的空气速度，这允许良好的吸收有效性及后续灰尘去 除。在传统系统中，孔的尺寸在吸收系统流率低的情况下不能保证良 好的吸收有效性及后续灰尘去除。

曲线图1-产量对比测试-低吸收流率

曲线图2-产量对比测试-正常吸收流率

以上曲线图的分析表明，在正常吸收流率的情况下，15H系统和 本发明系统之间的产量差异较小。

在低吸收流率的情况下，15H系统和本发明系统之间的产量差异 相当高。

正常流率指的是由真空吸尘器——过滤器+新的粉尘收集袋为清 洁的砂磨系统提供动力所产生的流率。

低流率指的是由具有堵塞的过滤器和粉尘收集袋的真空吸尘器为 砂磨系统提供动力所产生的流率。

衬垫狭槽+盘15H、8H+1、8H、6H+1及6H

市场上存在的15H或更多孔的任何衬垫都要求盘15H的孔组与具 有15个孔的衬垫对准以转动盘(或衬垫)，使得沿着盘直径对准的两 个(或四个)孔可与衬垫(具有相同几何形状的孔)的相应孔重合。 在将具有15个孔的盘放置在具有狭槽的衬垫中的情况中，我们仅仅需 要将盘15H的任一孔与任一狭槽对准，其它所有孔都将(全部或部分 地)与衬垫的狭槽对准，如图16所示。

在使用衬垫15H和无孔盘的情况下，在衬垫的孔的区域中，无孔 盘易大面积不受支撑。在具有狭槽的衬垫的情况下，给定狭槽的尺寸 小(宽度为3mm)，则允许放置无孔盘，从而最小化不能支撑在衬垫 上的盘面积。

换言之，传统多孔衬垫具有15个孔(含)或这些中的15个孔或 8个孔8或6个孔，当一个无孔盘放置成用于砂磨操作不平表面(例 如异型、凸起等等)时，在孔的直径为8-10mm时，盘在衬垫的孔的 区域中可能会受到损坏。在本发明的衬垫的情况下，鉴于每个狭槽的 尺寸较小且实质上在最内部的同心环中每个狭槽的面积较小，基本上 避免了无孔砂磨盘损坏的风险(应当注意的是，盘的最中心部分通常 是最需要上述砂磨操作的)。

在具有孔组8H+1、8H、6H+1以及6H的盘的情况下，也需要仅 仅使盘的任一孔与任一狭槽对准，衬垫上的狭槽的几何形状允许盘的 其余孔与衬垫的狭槽瞬时对准，如图16所示。

通过确保一个狭槽(狭槽的一部分)与盘的任一孔(上述孔组的 全部孔)相配合，根据用于相应孔组的相应衬垫，保证了良好的吸收 (衬垫6H+1与盘6H+1和6H，衬垫8H+1与盘8H+1和8H，衬垫 15H与盘15H)。因此，根据本发明的衬垫和具有15个孔的衬垫与上 述各种孔组的组合，盘的产量如下曲线图所示的那样保持非常接近。

图3-产量对比测试-具有孔组15H和6H+1的盘的衬垫 Multi-Indasa和衬垫15H

IND15H-6H+1：利用具有15个孔的衬垫和具有6+1个孔的盘进 行的测试；

IND15H-D15H：利用具有15个孔的衬垫和具有15个孔的盘进 行的测试；

MultiINDA-6H+1：利用衬垫Multi-Indasa和具有6+1个孔的盘 进行的测试；

MultiINDA-D15H：利用衬垫Multi-Indasa和具有15个孔的盘 进行的测试。

在将盘放置在具有狭槽的衬垫中期间，本发明中所描述的衬垫允 许孔相对于衬垫的大约3mm的狭槽不对准，如图13所示。其中，这 确保盘的其余孔与狭槽(部分或全部地)相配合，从而使得更容易地 放置盘。

在图1-3中可以看到，用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫(1)包 括通过紧固系统连结在一起的三个部件：

-具有截头圆锥形形状的上部件(2)，其包括吸收孔(7)和中心 孔(8)；

-中间部件(3)，其包括吸收狭槽(5)、中心孔(8’)和在背面的 由突起壁(10)所界定的一些吸收通道(6)；

-具有截头圆锥形形状的下部件(4)，所述中间部件(3)将接合 在所述下部件中，所述下部件包括狭槽(5)和中心孔(8”)以及布 置在同心的且其间等距离的环中的一些吸收狭槽(11)，并且每个吸收 狭槽(11)的尺寸从中心至外周增大。

在图6中可以看到，下部件(4)的背面包括位于同心的且其间等 距离的环处的吸收凹槽(9)，所述吸收凹槽(9)包括狭槽(11)；

中间部件(3)的吸收狭槽(5)与下部件(4)的吸收狭槽(11) 相配合。

在用于多孔砂磨盘的具有狭槽的衬垫中，中间部件(3)包括等距 离的且根据同心环所设置的各个孔(13)，所述各个孔用于借助于相应 的接合和胶合将中间部件紧固至上部件。

界定通道(6)的突起壁(10)的形状限定了通道(6)的形状。

本发明的实施例

如可从图5-6分别看到的那样，下部件(4)可包括两个实施例。

在图5-6中给出的吸收狭槽(11)布置在同心的且其间等距离的 环中，并且狭槽(11)中的每一个的尺寸从中心至外周增大。

另一方面，如可从图7-9分别看到的那样，下部件(3)可具有三 个实施例。

因此，在一个实施例中，如可从图9中看到的那样，中间部件(3) 包括：

-在外周上的等距离的孔(12)；

-在界定吸收通道(6)的突起壁(10)内部的孔(12)，所述孔位 于同心环上；以及

-在界定吸收通道(6)的突起壁(10)内部的一些孔(14)。

正如对本领域技术人员来说将是显而易见的那样，各种次要的变 形也是可以的，而这些次要的变形应当包括在本发明的范围内。

本发明应当仅由以下权利要求的精神所限制。