首页> 中国专利> 用于低辐射涂层的钛镍铌合金阻挡层

用于低辐射涂层的钛镍铌合金阻挡层

摘要

一种用于形成低辐射涂层的方法,包括:控制薄导电银层上所形成的阻挡层的成分。该阻挡层结构包含钛、镍、铌的三元合金,与二元合金阻挡层相比,整个性能被提高。其中,钛的重量百分比可以是5-15wt%,镍的重量百分比可以是30-50wt%,铌的重量百分比可以是40-60wt%。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-22

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C03C17/36 登记生效日:20200506 变更前: 变更后: 申请日:20140312

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C17/36 申请日:20140312

    实质审查的生效

  • 2016-03-23

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号