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用于光半导体装置用引线框的基体及其制造方法、使用该基体的光半导体装置用引线框及其制造方法、以及光半导体装置

摘要

一种光半导体装置用引线框的基体,其通过轧制加工而形成,其中,以入射角60°测定的该基体表面的光泽度在相对于轧制方向的平行方向和垂直方向上分别为500%以上,并且,其平行方向的光泽度与垂直方向的光泽度之比是0.8~1.2。

著录项

  • 公开/公告号CN105453283A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 古河电气工业株式会社;

    申请/专利号CN201380078695.9

  • 申请日2013-08-30

  • 分类号H01L33/62;H01L31/12;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人李辉

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-18 15:12:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-12

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/62 申请公布日:20160330 申请日:20130830

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-03-30

    公开

    公开

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