一种在金属载体上制备纳米氧化铈涂层的方法

摘要

本发明涉及一种在金属载体上制备纳米氧化铈涂层的方法，其特征在于：通过电化学沉积手段，在金属基体上直接生长氧化铈层，沉积层厚度在1~50um之间可调，制备的氧化铈沉积层具有纳米片状结构，其厚度为5~100nm之间。沉积层比表面积大，与基体结合力较强，效果优于普通的涂覆工艺。因此，具有很高的实用价值。