一种设有压强平衡器的热真空干燥装置及压强平衡器

摘要

本发明提供一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸附口，抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道的一端，抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平衡器；所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。本发明通过压强平衡装置的U型管的缓冲作用，将各支管道压强调节一致，从而使HVCD腔室整体和局部压强保持稳定，聚酰亚胺溶液气流恒定，减少MURA缺陷，改善了柔性基板的膜质，提高制程良率。

说明书

技术领域

本发明涉及柔性显示产品制造技术领域，尤其涉及一种设有压强平衡器的 热真空干燥装置及压强平衡器。

背景技术

通过柔性聚酰亚胺(FlexiblePolyimide，简称：柔性PI)制作柔性基板，应 用于柔性显示产品的生产，是目前柔性显示产品制造的热门课题之一。因柔性 聚酰亚胺具有高粘度、疏水性的特点，其前体聚酰亚胺溶液(polyimidesolution) 含溶剂NMP量比较多(溶剂NMP量的重量百分比≥70％)。聚酰亚胺溶液经 过涂布后，一般需要经过热真空干燥(HotDryVacuum，简称HVCD)制程， 再置于烘烤设备(Oven)中进行烘烤固化制程。因聚酰亚胺溶液(PISolvent)的 溶剂含量高，热真空干燥HCVD制程容易引起各种MURA问题，即出现斑点、 脏污、表面色泽不均造成的各种痕迹，从而影响柔性基板的良率。

常见的热真空干燥HVCD制程出现的MURA有因支撑Pin引起的Pin MURA，因真空泵的真空气流或者压强不均引起的不规则形状的MURA等。

目前，如图1所示，在制造热真空干燥HVCD装置的腔室1时，设置的抽 真空端口或真空吸附口(VacuumAbsorptionPort)一般为一个或者若干个，图1 中设有两个真空吸附口11、12，而且各抽真空支管道2直接汇合于单一的抽真 空主管道3，由抽真空主管道3连接抽真空泵单元4与溶剂捕集单元5的集合单 元。该设置方式容易引起各抽真空支管道内压强不均，导致热真空干燥HVCD 装置的腔室内局部压强不均，当聚酰亚胺溶剂被抽取时，气流发生紊乱，从而 在聚酰亚胺膜(PIFilm)表面产生不规则形状MURA。

发明内容

针对上述现有技术的不足，本发明提供了一种设有压强平衡器的热真空干 燥装置，通过压强平衡器调节各抽真空支管道的压强，维持HVCD腔室内局部 压强差异最小化，减少MURA产生。

为达到上述目的，本发明所采取的技术方案为：

本发明提供一种热真空干燥装置，包括腔室，在腔室的两侧面设有真空吸 附口，抽真空支管道的一端连接所述真空吸附口，另一端汇合于抽真空主管道 的一端，抽真空主管道的另一端连接真空泵单元，或者连接抽真空泵单元与溶 剂捕集单元的集合单元，在抽真空支管道与抽真空主管道的汇合处设有压强平 衡器；所述压强平衡器包括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，抽真空支管道 延伸至所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U 型管通过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。

进一步地，在所述U型管一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔，设 有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分。

进一步地，在U型管两侧设置的气孔的半径和数量根据溶剂的处理量和真 空泵单元的工作压强设置，所述气孔的数量是抽真空支管道数量的至少两倍。

进一步地，所述U型管的管径和高度需要根据溶剂的处理量设置。

进一步地，所述抽真空主管道漏斗状部分被设置为椭圆形漏斗状，所述抽 真空主管道的椭圆形漏斗状部位的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真空泵 单元的工作压强设置。

本发明还提供一种所述热真空干燥装置的压强平衡器，所述压强平衡器包 括U型管与抽真空主管道漏斗状部分，热真空干燥装置的抽真空支管道延伸至 所述U型管的底部，U型管的顶部密封，U型管两侧设有气孔；所述U型管通 过所述气孔连通横向设置的抽真空主管道漏斗状部分。

进一步地，在所述U型管一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气孔，设 有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分。

进一步地，在U型管两侧设置的气孔的半径和数量根据溶剂的处理量和真 空泵单元的工作压强设置，所述气孔的数量是抽真空支管道数量的至少两倍。

进一步地，所述U型管的管径和高度需要根据溶剂的处理量设置。

进一步地，所述抽真空主管道漏斗状部分被设置为椭圆形漏斗状，所述抽 真空主管道的椭圆形漏斗状部位的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真空泵 单元的工作压强设置。

本发明的有益效果在于：

本发明提供的热真空干燥装置将HVCD腔室内单一抽真空端口设计成多端 口(针对单一端口情形)，并在抽真空支管道和抽真空主管道之间增加一个“U 型管+椭圆漏斗状管道”的压强平衡装置，利用U型管的缓冲作用，调节U型 管上下端压强差异，将各支管道压强调节一致，从而使HVCD腔室整体和局部 压强保持稳定，聚酰亚胺溶液(PISolvent)气流恒定，减少MURA现象等缺陷， 改善了柔性基板的膜质，提高制程良率。

附图说明

图1为现有的热真空干燥HVCD装置的结构示意图；

图2为本发明的设有压强平衡器的热真空干燥HVCD装置及压强平衡器的 结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图具体阐明本发明的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不 构成对本发明专利保护范围的限制。

如图1、2所示，本实施例提供一种热真空干燥装置，包括腔室1，在腔室 1的两侧面设有真空吸附口11、12，抽真空支管道2的一端连接所述真空吸附 口11、12，另一端汇合于抽真空主管道3的一端，抽真空主管道3的另一端连 接真空泵单元4(图中未示出)，或者连接抽真空泵单元4与溶剂捕集单元5(图 中未示出)的集合单元，在抽真空支管道2与抽真空主管道3的汇合处设有压 强平衡器6；所述压强平衡器6包括U型管61与抽真空主管道漏斗状部分62， 抽真空支管道2延伸至所述U型管61的底部，U型管61的顶部密封，U型管 61两侧设有气孔610；所述U型管61通过所述气孔610连通横向设置的抽真空 主管道漏斗状部分62。

在本实施例中，在所述U型管61一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气 孔610，设有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分62。

较优的，在U型管61两侧设置的气孔610的半径和数量根据溶剂的处理量 和真空泵单元4的工作压强设置，所述气孔610的数量是抽真空支管道2数量 的至少两倍。本实施例中，抽真空支管道2数量为4条，所述气孔610的数量 为8个。

较优的，所述U型管61的管径R和高度H需要根据溶剂的处理量设置。

较优的，所述抽真空主管道漏斗状部分62被设置为椭圆形漏斗状，所述抽 真空主管道3的椭圆形漏斗状部位62的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和真 空泵单元的工作压强设置。

本发明还提供一种所述热真空干燥装置的压强平衡器6，所述压强平衡器6 包括U型管61与抽真空主管道漏斗状部分62，热真空干燥装置的抽真空支管 道2延伸至所述U型管61的底部，U型管61的顶部密封，U型管61两侧设有 气孔610；所述U型管61通过所述气孔610连通横向设置的抽真空主管道漏斗 状部分62。

在本实施例中，在所述U型管61一侧的内管壁和另一侧的外管壁上设有气 孔610，设有气孔的外管壁一侧连通所述抽真空主管道漏斗状部分62。

较优的，在U型管61两侧设置的气孔610的半径和数量根据溶剂的处理量 和真空泵单元5的工作压强设置，所述气孔610的数量是抽真空支管道2数量 的至少两倍。本实施例中，抽真空支管道2数量为4条，所述气孔610的数量 为8个。

较优的，所述U型管61的管径R和高度H需要根据溶剂的处理量设置。

较优的，所述抽真空主管道漏斗状部分62被设置为椭圆形漏斗状，所述 抽真空主管道3的椭圆形漏斗状部位62的长轴和短轴尺寸根据溶剂的处理量和 真空泵单元的工作压强设置。

在本实施例中，整个热真空干燥装置及其压强平衡器的材质为热传导性好 的不锈钢SUS材料。

本发明与现有的热真空干燥HVCD装置的实施效果对比如下：

(一)改善前的HVCD装置的实施效果：

如图1所示，假设改善前后的HVCD均有4条抽真空支管道2，其压强分 别为P1、P2、P3、P4。主管道3(图1中A点)内，因受真空泵单元4功率浮 动和HVCD腔室内溶剂(Solvent)蒸发气压的影响，A点的局部压强不尽相同， 以致各支路管道(Vent)的压强产生差异，即P1、P2、P3、P4值不相等，腔室 1内溶剂流向真空吸附口11、12的流速不一致，在聚酰亚胺溶液(PISolvent) 表面形成MURA，膜质变得粗糙乃至劣化。

(二)改善后的HVCD装置的实施效果：

受真空泵单元4的真空稳定因素影响，a点内该区域局部压强可能产生差异；

经过U型管61的缓冲调节作用，b整体压强和a处基本相同，但该区域局 部压强差异已最小化；

b处整体压强的稳定，局部压强差异最小化，保证c处各支管道的压强环境 一致。各支管道抽取溶剂或真空时，相互间的压强差最小化乃至没有差异，HVCD 腔室溶剂蒸发气流稳定，减少MURA产生，改善聚酰亚胺表面膜质。

压强对比:Pa≤Pb≤Pc＝P1＝P2＝P3＝P4。

以上所揭露的仅为本发明的较佳实施例，不能以此来限定本发明的权利保 护范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范 围。