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用于解决具有改良的流动均匀性/气体传导性的可变的处理容积的对称腔室主体设计架构

摘要

本公开案一般涉及具有模块化设计的处理腔室,以提供可变的处理容积以及改良的流动传导性及均匀性。根据本公开案的模块化设计利用简化的腔室结构实现改良的处理均匀性和对称性。该模块化设计根据本公开案进一步通过替换模块化处理腔室中的一个或多个模块来提供执行各种处理或处理各种尺寸的基板的灵活性。

著录项

  • 公开/公告号CN105431924A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201580001474.0

  • 申请日2015-03-13

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L21/203(20060101);H01L21/205(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人姬利永

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-18 14:50:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20150313

    实质审查的生效

  • 2016-03-23

    公开

    公开

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