首页> 中国专利> 压印光刻法的矩形基材和制备方法

压印光刻法的矩形基材和制备方法

摘要

通过提供具有研磨的前后表面和四个侧面的起始矩形基材,和在恒压下将旋转抛光垫垂直地压靠于一个侧面,和使该旋转抛光垫和该基材平行于该侧面相对运动,由此抛光该基材的该侧面,从而制备矩形基材。在压印光刻法中,该矩形基材能够以高精度控制压缩和图案形状,并由此能将微细特征尺寸的复杂图案转印至接收体。

著录项

  • 公开/公告号CN105372933A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越化学工业株式会社;

    申请/专利号CN201510510609.8

  • 申请日2015-08-19

  • 分类号G03F7/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人杜丽利

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-18 14:30:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20150819

    实质审查的生效

  • 2016-03-02

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号