首页> 中国专利> 蚀刻工艺中减少的钛底切

蚀刻工艺中减少的钛底切

摘要

根据本公开内容的一个实施方式,一种形成金属特征的方法包括:使用第一蚀刻化学品蚀刻第一金属层的一部分,和使用第二蚀刻化学品蚀刻阻挡层的一部分以实现阻挡层底切,所述底切小于或等于阻挡层厚度的两倍。

著录项

  • 公开/公告号CN105304503A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201510291027.5

  • 申请日2015-05-29

  • 分类号H01L21/48;H01L23/498;

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-18 13:57:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-07

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/48 申请公布日:20160203 申请日:20150529

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2017-06-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/48 申请日:20150529

    实质审查的生效

  • 2016-02-03

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号