一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜

摘要

本发明公开了一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜，其采用了双远心结构，主要用于将光刻图案投射到所述投影物镜像平面内。该单倍双远心物镜包括从所述物平面沿光轴依次设置了共12片透镜，其中第1枚和第12枚透镜为负透镜，其余均为正透镜。该物镜前组与后组关于孔径光阑前后使用相同的镜片材料和结构，细微调整空气间隔，形成为类似对称结构。该物镜共轭总长(物方到像方)为L＝419mm，像方工作距为71.74mm。物方、像方远心度均控制在±0.5度以内，放大倍率为-1倍。本发明能够良好的校正多种像差、畸变。该物镜共轭总长较短，镜片较少，结构紧凑，并保证物方和像方双远心特性，可以满足高像质光刻设备要求。