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真空处理装置、真空处理装置的维护方法和真空处理工厂

摘要

真空处理装置(1)包括:第1处理室(101),容纳被处理物(107)而进行真空处理;第2处理室(102),容纳进行真空处理之前的被处理物和进行真空处理之后的被处理物,且可进行真空排气;门部(103),在第1处理室和第2处理室之间,以能够对第1处理室装卸的方式安装;搬送装置(202),通过门部(103),将进行真空处理之前的被处理物从搬入部(108)搬入真空处理部(104),并将进行真空处理之后的被处理物从真空处理部(104)搬送到搬出部(119);以及移动机构(200),将第1处理室和第2处理室隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN101952935B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 夏普株式会社;

    申请/专利号CN200980105797.9

  • 发明设计人 岸本克史;福冈裕介;

    申请日2009-01-29

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人胡金珑

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-03-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/02 授权公告日:20121121 终止日期:20140129 申请日:20090129

    专利权的终止

  • 2012-11-21

    授权

    授权

  • 2011-03-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20090129

    实质审查的生效

  • 2011-01-19

    公开

    公开

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