法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-25
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/02 授权公告日:20121121 终止日期:20140129 申请日:20090129
专利权的终止
2012-11-21
授权
授权
2011-03-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20090129
实质审查的生效
2011-01-19
公开
公开
机译: 真空处理装置的除尘装置,真空处理装置的除尘方法和真空处理装置
机译: 真空处理装置的静电卡盘,包含真空处理装置的真空处理装置以及静电卡盘的制造方法
机译: 真空处理装置及使用该真空处理装置的真空处理方法,