用于制作掩模集成框架的对位方法及系统

摘要

本发明涉及显示技术领域，公开了一种用于制作掩模集成框架的对位方法，包括：以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网机。本发明减小了利用mother glass制作MFA时对位的偏差，降低了最终用该MFA蒸镀出来的显示器件会存在不良的风险。

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一用于制作掩模集成框架的 对位方法及系统。

背景技术

精细金属掩膜(FMM Mask)模式是通过蒸镀方式将OLED材料 按照预定程序蒸镀到低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon， LTPS)基板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。在进行FMM 制作时，需要用Array工艺制作出来的Mother Glass(就是未形成OLED 材料的阵列基板，只有TFT阵列)作为对位焊接基准制作掩模集成框 架(Mask Frame Assembly，MFA)的基准。CCD图像传感器在不受 干扰的情况下识别Mother Glass上Pattern与对应MFA的Mask的狭缝 (slit)进行PPA(Pixel Position Accuracy，像素位置精度)匹配(通 过测量MFA Mask slit的中心位置与Mother Glass上的Pattern的中心线 的距离)。由于制作Mother Glass会存在不同情况的偏差(例如：像 素位置整体向一个方向偏移)，因此在FMM Tension(即张网机，用 于将FMM在金属框架中焊接成一张大的MFA)使用存在偏差的 Mother Glass作为焊接基准时，并且在设备存在制作偏差的情况下， 在后续采用MFA进行蒸镀时，会导致PPA的偏差会累加，最终用该 MFA蒸镀出来的显示器件会存在不良的风险。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是：如何减小利用mother glass制作MFA 时对位的偏差。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本发明提供了一种用于制作掩模集成框架 的对位方法，包括：

以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述金属框架的 中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；

控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的坐标与所述 预设的理论值的偏移量小于预定误差值；

将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传输至张网 机。

其中，所述控制所述阵列基板移动使像素点在绝对坐标系下的坐 标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值的步骤包括：

测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标与预设的 理论值的偏移量；

当判断偏移量大于所述预定误差值时控制所述阵列基板向像素 点偏移的反方向移动所述偏移量的距离。

其中，在测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标与 预设的理论值的偏移量时，选取阵列基板上预定数量的像素点作为样 本进行测量。

其中，所述预定误差值为1.5微米。

其中，还包括将移动阵列基板后的阵列基板上的对位孔、厚度测 试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。

其中，还包括存储移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐 标。

本发明还提供了一种用于制作掩模集成框架的对位系统，包括：

坐标系建立单元，用于以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐 标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合；

移动控制单元，用于控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐 标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值；

坐标传输单元，用于将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下 的坐标传输至张网机。

其中，所述移动控制单元包括：

偏移量测量单元，用于测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标 系下的坐标与预设的理论值的偏移量；

判断移动单元，用于当判断偏移量大于所述预定误差值时控制所 述阵列基板向像素点偏移的反方向移动所述偏移量的距离。

其中，所述偏移量测量单元具体用于在所述阵列基板上每个有效 像素阵列中选取至少三个在同一直线上的像素点作为样本进行测量。

其中，所述预定误差值为1.5微米。

其中，所述坐标传输单元还用于将移动阵列基板后的阵列基板上 的对位孔、厚度测试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。

其中，该系统还包括：坐标存储单元，用于存储移动阵列基板后 的像素点在绝对坐标系下的坐标。

(三)有益效果

本发明的用于制作掩模集成框架的对位方法及系统通过移动阵 列基板(mother class)的位置，使其在绝对坐标系下的坐标达到预设 的理论值，从而减小了利用mother glass制作MFA时对位的偏差，降低 了最终用该MFA蒸镀出来的显示器件会存在不良的风险。

附图说明

图1是本发明实施例的一种用于制作掩模集成框架的对位方法流 程图；

图2是图1中步骤S120的具体流程图；

图3是在阵列基板的像素阵列中选取像素点样本进行测量的示意 图；

图4是本发明实施例的一种用于制作掩模集成框架的对位系统结 构示意图；

图5是图4中移动控制单元420的具体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细 描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

本发明的实施例的用于制作掩模集成框架的对位方法如图1所 示，包括：

步骤S110，以金属框架的中心为坐标原点建立绝对坐标系，所述 金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重合。该阵列基板即 为mother class。

步骤S120，控制所述阵列基板移动，使像素点在绝对坐标系下的 坐标与所述预设的理论值(理论值是以理想像素的不同排列方式的理 论设计值，是PPA最为精准的一个标准值)的偏移量小于预定误差值。

步骤S130，将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下的坐标传 输至张网机。张网机根据该坐标值进行后续的MFA的制作。

本发明的用于制作掩模集成框架的对位方法及系统通过移动阵 列基板(mother class)的位置，使其在绝对坐标系下的坐标达到预设 的理论值，从而减小了利用mother glass制作MFA时对位的偏差，降低 了最终用该MFA蒸镀出来的显示器件会存在不良的风险。

步骤S120具体如图2所示，包括：

步骤S210，测量所述阵列基板上的像素点在绝对坐标系下的坐标 与预设的理论值的偏移量。

步骤S220，判断所述偏移量是否大于预定误差，若大于执行步 骤S230，否则停止移动。

步骤S230，控制所述阵列基板向像素点偏移的反方向移动所述 偏移量的距离。进一步地，由于阵列基板是放置在承载台上通过机械 手来移动承载台来达到移动阵列基板的目的，这种机械移动会产生设 备误差，实际可能向像素点偏移的反方向移动的距离不等于所述偏移 量。因此，进一步地，步骤S230执行完后再执行步骤S210，即反复 执行S210～S230，直到测得的偏移量不大于预定误差。

进一步地，由于像素点的偏移具有整体性，选取阵列基板上预定 数量的像素点作为样本进行测量。具体地，按着像素排列的直线性和 像素的有效性，在所述阵列基板上每个有效像素阵列中选取至少三个 在同一直线上的像素点作为样本进行测量。

测试点位排列位置如图3所示，具有a、b、c和d四个像素阵列 的阵列基板，在横向和纵向都可以确保像素的直线型，排除因为个别 点位存在较大的偏差影响绝对坐标的测试和调整。进一步地，两条直 线型的测试会使测试更加精确、快捷。例如：在每个屏幕(cell)的 有效区域内选取，选取的三个像素点位于同一直线上，共计两条直线 两条直线相比较于一条直线测试可以更好的反应有效区的像素位置、 更具有可代表性，像素点共计六个，若有50个屏幕(cell)，则共计 300个像素点，不但测试更加精确、快捷，而且相对于对整个阵列基 板的像素点进行测量，减少了测量次数，提高测量效率。

步骤S120中，所述预定误差值为1.5微米，即偏移量不超过1.5 微米。

其中，还包括将移动阵列基板后的阵列基板上的对位孔、厚度测 试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机，将对位孔、厚度测 试区域等输入张网机后，可以提高对位精度，降低因为制作工艺引起 的误差。

进一步地，还包括存储移动阵列基板后的像素点在绝对坐标系下 的坐标，以后对于同样规格的阵列基板，张网机直接用该保存的坐标 值制作MFA。

本发明还提供了一种用于制作掩模集成框架的对位系统，如图4 所示包括：

坐标系建立单元410，用于以金属框架的中心为坐标原点建立绝 对坐标系，所述金属框架的中心与以作为基准的阵列基板的中心重 合。

移动控制单元420，用于控制所述阵列基板移动，使像素点在绝 对坐标系下的坐标与所述预设的理论值的偏移量小于预定误差值。

坐标传输单元430，用于将移动阵列基板后的像素点在绝对坐标 系下的坐标传输至张网机。

移动控制单元420的具体结构如图5所示，包括：。

偏移量测量单元510，用于测量所述阵列基板上的像素点在绝对 坐标系下的坐标与预设的理论值的偏移量。

判断移动单元520，用于当判断偏移量大于所述预定误差值时控 制所述阵列基板向像素点偏移的反方向移动所述偏移量的距离。

进一步地，所述偏移量测量单元具体用于在所述阵列基板上每个 有效像素阵列中选取至少三个在同一直线上的像素点作为样本进行 测量。

其中，所述预定误差值为1.5微米。

其中，所述坐标传输单元还用于将移动阵列基板后的阵列基板上 的对位孔、厚度测试区域在所述绝对坐标系下的坐标传输至张网机。

其中，该系统还包括：坐标存储单元，用于存储移动阵列基板后 的像素点在绝对坐标系下的坐标。

以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关 技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下， 还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明 的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。