一种提升晶体硅太阳能电池效率减反射膜制备方法

摘要

本发明公开了一种提升晶体硅太阳能电池效率的减反射膜制备方法，通过在硅基衬底上沉积三层薄膜，所述各层薄膜分别是第一层为二氧化硅，厚度为2-10nm，第二层为厚度为10-20nm，折射率为2.32-2.4的氮化硅薄膜；第三层为厚度为50-60nm，折射率为2.00-2.045的氮化硅薄膜；本发明在原工艺基础上，增加第二层膜的折射率，降低第三层膜的折射率，无需增加任何设备和成本，有效地提高了镀膜的钝化效果，增强了减反射膜的减反射作用，提高了太阳能电池的光电转化效率。