首页> 中国专利> 1064纳米波段偏振无关高效率二维反射达曼光栅

1064纳米波段偏振无关高效率二维反射达曼光栅

摘要

一种1064纳米波段偏振无关高效率二维反射达曼光栅,其结构为熔融石英基底上依次镀上三氧化二铝膜、金膜、三氧化二铝膜和熔融石英膜,介于金膜与熔融石英膜之间的氧化铝膜为连接层,在熔融石英膜层上刻蚀矩形槽光栅。其光栅周期1917~1927纳米,归一化相位突变点坐标为0.265~0.275,光栅深度为730~740纳米,连接层厚度92~102纳米。本发明达曼光栅在TE或TM偏振光垂直入射时,可以实现中心波长1064纳米波段2×2分束,总衍射效率基本大于85%。该达曼光栅由光学全息记录技术或激光直写装置结合微电子深刻蚀工艺以及镀膜技术加工而成,取材方便,造价小,能大批量生产,具有重要的实用前景。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-01

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B5/18 申请公布日:20150715 申请日:20150403

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-08-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20150403

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号