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等离子体处理装置及用于处理至少一块基片的方法

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本发明涉及用于处理至少一块基片的一种方法和一种等离子体处理装置，其具有：等离子体处理腔(12)，在该腔中可产生供处理该基片(1)用的等离子体；至少一个通入该等离子体处理腔(12)中的进气口(16)，以用于导入至少一种过程气体(15)；真空泵装置(18)，其经出气口(20)与该等离子体处理腔(12)呈流动连接，该真空泵装置在2-50Pa的压力范围内按分子氮(N

著录项

公开/公告号CN104704142A

专利类型发明专利
公开/公告日2015-06-10

原文格式PDF
申请/专利权人曼兹股份公司;
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申请/专利号CN201380051002.7
发明设计人 R·贝克曼;S·诺尔克;B·胡斯;S·卡斯特尔;B·梅尔;
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申请日2013-09-03
分类号
代理机构北京北翔知识产权代理有限公司;
代理人钟守期
地址德国罗伊特林根
入库时间 2023-12-18 09:28:35

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-03-15

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/44 申请公布日:20150610 申请日:20130903

发明专利申请公布后的视为撤回
2015-07-08

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20130903

实质审查的生效
2015-06-10

公开

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1. 等离子体处理装置及用于处理至少一块基片的方法 [P] . 中国专利： CN104704142A . 2015-06-10
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