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一种具有低反射率黑硅的太阳能电池制备方法

摘要

本发明公开了一种具有低反射率黑硅的太阳能电池制备方法,包括用硝酸银、双氧水、氢氟酸以及表面活性剂混合反应体系制备黑硅;将制备的黑硅浸入硝酸中初步去除黑硅表面残留的银;将初步去除了银的黑硅浸入盐酸中进一步去除黑硅表面残留的银;将制得的黑硅置于扩散炉中;通入氮气和氧气对黑硅表面进行氧化;通入携带三氯氧磷的氮气对黑硅表面进行修正,并同时在黑硅表面制备p-n结;将扩散后的黑硅去除表面的磷硅玻璃层,表面沉积氮化硅薄膜,丝网印刷正背面电极,烧结制备出具有低反射率的黑硅太阳能电池。本发明对目前单晶以及多晶制绒线稍加更改即可完成,可有效降低黑硅表面的缺陷态密度以提高少数载流子寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN104701392A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 泰州德通电气有限公司;

    申请/专利号CN201510047926.0

  • 发明设计人 鲁伟明;费存勇;李省;初仁龙;

    申请日2015-01-30

  • 分类号

  • 代理机构常州市维益专利事务所;

  • 代理人赵枫

  • 地址 225300 江苏省泰州市海陵区江洲南路97号

  • 入库时间 2023-12-18 09:18:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-17

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/0236 申请公布日:20150610 申请日:20150130

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-06-10

    公开

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