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一种具有微纳褶皱图案的薄膜制备方法

摘要

本发明提供了一种制备具有微纳褶皱图案薄膜的方法,包括以下步骤:选取基底;在所述基底上形成聚合物薄膜,并进行退火处理,得到该聚合物薄膜厚度为10nm-2μm;在步骤2)所得的聚合物薄膜上形成金属薄膜,其厚度为2~50nm;用激光在步骤3)所得的金属薄膜表面进行图案化扫描;将步骤4)所得产物加热至所述聚合物薄膜的玻璃化转变温度。该方法工艺简单、可控性强、成本低廉,可以大面积实现。所制备的具有有序周期结构的薄膜材料在光催化、光电薄膜器件、高性能传感器等领域有着广阔的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN102199744B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-11-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国家纳米科学中心;

    申请/专利号CN201010135681.4

  • 发明设计人 张祝伟;郭传飞;刘前;

    申请日2010-03-26

  • 分类号C23C14/20(20060101);B32B15/08(20060101);B32B27/06(20060101);

  • 代理机构11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司;

  • 代理人王勇

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北一条11号

  • 入库时间 2022-08-23 09:12:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-11-21

    授权

    授权

  • 2011-11-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/20 申请日:20100326

    实质审查的生效

  • 2011-09-28

    公开

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