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一种新型出光结构的GaN基发光二极管及其制作方法

摘要

本发明公开了一种新型出光结构的GaN基发光二极管,包括在生长面设有多个凹形结构的衬底,衬底生长面依次生长有第一半导体载流子注入层、发光结构和第二半导体载流子注入层,同时还公开了该GaN基发光二极管的制作方法,先通过湿刻或干刻法在衬底生长面上形成有序分布的直径为5-10um凹形结构阵列,再采用MOCVD方法在衬底上依次生长第一半导体载流子注入层、多量子阱结构和第二半导体载流子注入层。本发明制作出的发光二极管,性能可靠,发光效率高,且能显著改善器件尤其是大功率输入时的散热效率,明显降低结温。

著录项

  • 公开/公告号CN104576864A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东德力光电有限公司;

    申请/专利号CN201310506886.2

  • 发明设计人 郝锐;林振贤;林永祥;汪俊翰;

    申请日2013-10-25

  • 分类号H01L33/20;H01L33/00;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 529000 广东省江门市江海区彩虹路1号

  • 入库时间 2023-12-18 08:30:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L33/20 申请公布日:20150429 申请日:20131025

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/20 申请日:20131025

    实质审查的生效

  • 2015-04-29

    公开

    公开

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