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焊盘寿命对化学机械抛光影响的自适应端点方法

摘要

本发明提供了一种焊盘寿命对化学机械抛光影响的自适应端点方法。该方法包括:为化学机械抛光(CMP)系统中的抛光焊盘限定焊盘寿命的多个时间区域;根据焊盘寿命的多个时间区域将阶梯系数分配给抛光焊盘;根据焊盘寿命影响分别限定多个时间区域的多个端点窗口;将CMP工艺施加给位于抛光焊盘上的晶圆;基于阶梯系数确定晶圆的抛光信号的时间区域;根据时间区域使端点窗口之一与抛光信号相关联;以及在由端点窗口所确定的端点处结束CMP工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN102683237A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-09-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201110307168.3

  • 发明设计人 李储安;黄惠琪;张简鹏崇;

    申请日2011-10-11

  • 分类号H01L21/66;H01L21/321;

  • 代理机构北京德恒律师事务所;

  • 代理人陆鑫

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2023-12-18 08:00:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-14

    授权

    授权

  • 2012-11-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20111011

    实质审查的生效

  • 2012-09-19

    公开

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