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一种金属粒子阵列基表面增强拉曼散射基底的制备方法

摘要

一种金属粒子阵列基表面增强拉曼散射基底的制备方法,它是以金属辅助化学腐蚀法制备出的多孔硅纳米线阵列(PSNWA)为衬底材料,利用浸渍还原法将金属盐溶液中的金属离子还原成单质,并以纳米颗粒的形式在PSNWA表面均匀沉积后得到表面增强拉曼散射活性基底,通过浸润或滴定的方法将待检测物质引入活性基底表面,即可进行拉曼光谱检测。该方法成本低廉、工艺简单、操作简便,SERS信号灵敏度高、重复性好,同时SERS光谱有很高的稳定性和重现性。本发明提供快速、高灵敏度、高可靠性的分子检测及痕量分析方法,需用样品量极少,适合各种液体样品,在临床生物分子快速识别、痕量化学物质检测、生物样品分析等方面具有广阔应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN102661944A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-09-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京化工大学;

    申请/专利号CN201210148889.9

  • 申请日2012-05-14

  • 分类号G01N21/65;

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘萍

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路15号

  • 入库时间 2023-12-18 06:28:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-30

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N21/65 申请公布日:20120912 申请日:20120514

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-11-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/65 申请日:20120514

    实质审查的生效

  • 2012-09-12

    公开

    公开

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