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提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备

摘要

本发明提供一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法,包括以下步骤:提供一清洗台,将晶圆水平放置于所述清洗台上;将清洗喷头设置于所述晶圆的圆心上方,所述清洗喷头的出液方向倾斜于所述晶圆的垂线方向;晶圆启动水平自转,所述清洗喷头启动水平移动;开始清洗过程,所述清洗喷头喷出清洗液至晶圆表面,所述清洗喷头水平移动至偏离所述晶圆圆心的位置停止;结束清洗,所述清洗喷头停止供应清洗液,所述晶圆继续水平自转,以甩干所述晶圆。本发明还提供了一种清洗甩干设备。本发明能够极大地提高晶圆清洁度,减少液体杂质及颗粒杂质的残留问题,对设备的改进简单易行,成本低廉,在提高晶圆产品的性能、成品率和可靠性的同时节约了工艺成本。

著录项

  • 公开/公告号CN102580941A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海集成电路研发中心有限公司;

    申请/专利号CN201210045385.4

  • 发明设计人 王毅博;

    申请日2012-02-27

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郑玮

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高斯路497号

  • 入库时间 2023-12-18 06:12:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-17

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B08B3/02 申请公布日:20120718 申请日:20120227

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B3/02 申请日:20120227

    实质审查的生效

  • 2012-07-18

    公开

    公开

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