使用氨基金属与卤化金属前体组合的含金属氮化物的薄膜沉积

摘要

公开由氨基金属前体与卤化金属前体的组合形成含金属氮化物的薄膜，优选由氨基硅烷前体与氯硅烷前体的组合形成含SiN的薄膜的方法。变化所述氨基金属前体及所述卤化金属前体的顺序反应实现了具有变化的化学计量的含金属氮化物的薄膜的形成。另外，该含金属氮化物的薄膜的组成可基于氨基金属前体的结构而改性。所公开方法可为热方法或低温下的等离子体方法。