法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-14
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01J1/42 申请公布日:20120613 申请日:20111121
发明专利申请公布后的视为撤回
2012-07-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J1/42 申请日:20111121
实质审查的生效
2012-06-13
公开
公开
机译: 能够检测来自极紫外光辐射面罩的光的极紫外光辐射面罩的相粗糙度测量方法及其所用的装置
机译: 能够补偿卡盘平面误差的空白极紫外光辐射照相掩模,一种制造方法和一种具有后部抬升型前膜的基体
机译: 形成能够执行具有反射层特性的修复过程的极紫外光刻技术的掩码的方法