制备光学镀膜材料的方法及光学镀膜材料

摘要

本发明涉及一种制备光学镀膜材料的方法，包括提供一种至少包含二氧化钛及三氧化二镧的混合物；以及将镧添加至该混合物中，并于真空下以2000℃至3000℃的温度进行处理，以制得光学镀膜材料。前述方法相较于已知技术具有原料成本低、制程相对简单等优点。此外，本发明还涉及一种光学镀膜材料。