法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-11-06
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01B21/02 申请公布日:20120104 申请日:20110817
发明专利申请公布后的视为撤回
2012-02-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B21/02 申请日:20110817
实质审查的生效
2012-01-04
公开
公开
机译: 光刻设备,一种制造设备的方法以及一种能够测量活动物体的位移的位移测量系统校准方法
机译: 用于测量移动机器人的挠度的位移测量系统
机译: 机床主轴的位移和挠度测量装置,具有旋转挠度计算单元,该旋转挠度计算单元根据压力或流体流量的变化来计算刀架或刀具的旋转挠度