扩大金属互连的光刻工艺窗口的方法

摘要

本发明公开了一种扩大金属互连的光刻工艺窗口的方法，所述金属互连通过包括通孔和沟槽的双大马士革结构实现，所述沟槽使用硬掩膜通过光刻工艺形成，所述硬掩膜含有低温氧化物层和形成于所述低温氧化物层之上的有机底部抗反射涂层，其中，通过沉积工艺形成所述低温氧化物层后，用活性气体等离子处理所述低温氧化物层的表面以提高所述低温氧化物层和所述有机底部抗反射涂层之间的粘附性。