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一种基于面激元辐射模式的表面沟槽结构

摘要

一种基于面激元辐射模式的表面沟槽结构,首先确定该表面沟槽结构实现聚束(beaming)效应的工作频率f;然后选择金属板材料;在金属板中央区域开一亚波长孔径(半径为r)或狭长缝隙(宽度为w)。接着在金属板的出射面(或同时在入射面和出射面),排布若干周期沟槽结构,沟槽的周期为gp,深度为gd以及宽度为gw,第一个沟槽距离金属缝隙中央的距离为gp

著录项

  • 公开/公告号CN102169199A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201110091773.1

  • 申请日2011-04-13

  • 分类号G02B5/00;H01Q15/00;

  • 代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人成金玉

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2023-12-18 03:13:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-06

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B5/00 申请公布日:20110831 申请日:20110413

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/00 申请日:20110413

    实质审查的生效

  • 2011-08-31

    公开

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