法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-11-20
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/77 申请公布日:20110914 申请日:20110418
发明专利申请公布后的视为撤回
2011-11-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/77 申请日:20110418
实质审查的生效
2011-09-14
公开
公开
机译: 薄膜晶体管(TFT),有源矩阵基板,有源矩阵基板的制造方法以及薄膜晶体管(TFT)的制造方法
机译: 用于有源矩阵LCD的晶体管的TFT制造工艺-涉及将导电层选择性地附着到漏极和源极,作为进一步生长半导体层的基础
机译: 有源矩阵显示器的制造方法,特别是用于TFT显示器的有源矩阵显示器的制造方法,其中有源区掩模用于生产显示器,并在具有非零曝光重叠区的连续步骤中使用