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用于几乎无接触地接纳扁平构件如硅基晶片的持取器

摘要

本发明涉及一种持取器,该持取器用于几乎无接触地接纳扁平构件如硅基晶片(44),所述持取器具有支承装置(10),在所述支承装置中设有至少一个能被加载负压的抽吸部位(12,14)。这种持取器通过以下特征实现了对构件上和/或抽吸部位上的制造误差的补偿:所述抽吸部位(12,14)包括抽吸头(20);在所述支承装置(10)中构造有抽吸头接纳部(22);所述抽吸头(20)以能与所述支承装置(10)的平面垂直地移动的方式保持在所述抽吸头接纳部(22)中。

著录项

  • 公开/公告号CN102136443A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010620346.3

  • 发明设计人 G·凯特尔;

    申请日2010-12-22

  • 分类号H01L21/683;H01L21/687;

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人吴鹏

  • 地址 德国施特劳宾

  • 入库时间 2023-12-18 02:51:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/683 申请公布日:20110727 申请日:20101222

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/683 申请日:20101222

    实质审查的生效

  • 2011-07-27

    公开

    公开

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