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一种具有多层栅极结构的高压器件及其制造方法

摘要

本发明提出了具有多层栅极结构的高压器件及其制造方法,该高压器件至少包括:下层多晶硅,上层多晶硅和在它们之间的氧化物-氮化物-氧化物叠层,以及在上层多晶硅上的阻挡层。由于在蚀刻时阻挡层与多晶硅之间具有高的选择比,因而能够防止上层多晶硅上方光阻变薄而导致上层多晶硅被破坏的现象。同时形成的阻挡层还能够在高压器件区域作为衬垫(spacer),可以在一定程度上改善高压器件的击穿性能。

著录项

  • 公开/公告号CN102104046A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 和舰科技(苏州)有限公司;

    申请/专利号CN200910261620.X

  • 发明设计人 曾令旭;李煦;何荣;

    申请日2009-12-18

  • 分类号H01L27/115;H01L23/52;H01L21/8247;H01L21/28;H01L21/768;

  • 代理机构北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人王光辉

  • 地址 215025 江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号

  • 入库时间 2023-12-18 02:30:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-05-01

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L27/115 申请公布日:20110622 申请日:20091218

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-08-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20091218

    实质审查的生效

  • 2011-06-22

    公开

    公开

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