机译:与低平面绝缘体上硅器件相比,在低k埋入式绝缘子上制造具有平面栅极结构的密集封装多线晶体管的优势
Advanced LSI Technology Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai-Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan;
Department of Physical Electronics, Graduate School of Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-S9-12, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan;
Advanced LSI Technology Laboratory, Corporate R&D Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai-Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan;
机译:利用杂质诱导的无序制造异质结双极晶体管和掩埋异质结构激光器的统一平面工艺
机译:具有高k最后替代金属栅极技术的激进缩放平面和多栅极鳍式场效应晶体管器件的有效功函数工程
机译:薄埋氧化物完全耗尽的平面SOI晶体管的LDD和背栅工程
机译:利用杂质诱导无序制造异质结双极晶体管和埋藏异质结构激光器的统一平面工艺
机译:基于有机晶体管的电路作为平面微流体设备的驱动器
机译:使用交替排列的绝缘体-金属和绝缘体-绝缘体-金属复合结构实现平面等离子亚波长分辨率
机译:利用密集的平面声回波探测器确定最低大气层中的湍流结构。