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能够控制反应室内的排放流体流动路径的化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种能够控制反应室内的排放流体的流动路径的化学气相沉积装置,将所述化学气相沉积装置装配为不必凭借重新设计和重新制造该装置即可控制基座和腔室的内表面之间的气体排放路径的宽度。化学气相沉积装置具有:腔室;位于腔室内部的并且上面能加载基板的基座;向基板注入处理气的喷头;以及引导单元,该引导单元可拆卸地安装在腔室的内部以引导处理气,从而使从喷头注入的处理气通过腔室内形成的腔室孔得以排放。

著录项

  • 公开/公告号CN101985746A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 丽佳达普株式会社;

    申请/专利号CN201010274873.3

  • 发明设计人 韩明宇;

    申请日2010-07-28

  • 分类号C23C16/44;C23C16/18;

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁香兰

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-12-18 01:48:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-29

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C16/44 申请公布日:20110316 申请日:20100728

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2011-05-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20100728

    实质审查的生效

  • 2011-03-16

    公开

    公开

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