基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法

摘要

本发明公开了一种基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法，其特征是首先加工制作PDMS软模板，利用PDMS软模板制作SU-8纳米通道基底，同时利用紫外曝光显影制作包含样品池的SU-8键合层，并利用键合技术实现SU-8纳米通道基底与键合层的键合密封，最后去除PDMS及PET软基底，实现SU-8纳米流体系统自支撑结构。本发明方法操作简单，制造成本低，设备要求不高。制作结果显示了系统没有分层和堵塞，也看不出键合的界面，通道的轮廓清晰可见，展示了很好的质量。