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一种高纯度2,5-吡啶二羧酸的制备方法

摘要

本发明公开了一种高纯度2,5-吡啶二羧酸的制备方法,所述的制备方法包括如下步骤:以6-甲基烟酸或6-甲基烟酸酯为原料,在水溶剂中或碱水溶液中用氧化剂KMnO

著录项

  • 公开/公告号CN101857567A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江鼎龙化工有限公司;

    申请/专利号CN200910097325.5

  • 发明设计人 金宁人;王雪亮;施云龙;

    申请日2009-04-07

  • 分类号C07D213/807;C07D213/80;

  • 代理机构杭州天正专利事务所有限公司;

  • 代理人黄美娟

  • 地址 310016 浙江省杭州市江干区庆春东路66号庆春发展大厦B座16楼

  • 入库时间 2023-12-18 00:52:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-20

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07D213/807 公开日:20101013 申请日:20090407

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07D213/807 申请日:20090407

    实质审查的生效

  • 2010-10-13

    公开

    公开

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