使用含硅前驱物和原子氧进行高质量流体状硅氧化物的化学气相沉积

摘要

本文描述沉积氧化硅层于基材上的方法。该方法可包括提供基材至沉积室、在沉积室外产生氧原子前驱物以及将氧原子前驱物引至沉积室中的多个步骤。该方法亦可包括引进硅前驱物至沉积室中，其中硅前驱物和氧原子前驱物先在沉积室内混合。硅前驱物与氧原子前驱物反应而形成氧化硅层于基材上，所沉积的氧化硅层可经退火处理。本文亦描述用来沉积氧化硅层于基材上的系统。