石英微机械陀螺仪敏感芯片化学刻蚀加工方法

摘要

本发明涉及一种石英微机械陀螺仪敏感芯片化学刻蚀加工方法，它是将光刻后的石英晶体放入腐蚀液中，在60℃-95℃温度条件下对石英晶体进行化学刻蚀，刻蚀时间为10-20小时；腐蚀液由水、氢氟酸和氟化铵混合而成，水、氢氟酸和氟化铵的质量比为1∶0.1-1.5∶0.05-0.5。本发明能加工出侧壁陡直、表面光滑、尺寸精度满足要求、小岛少的敏感芯片，本方法的改进使敏感芯片的质量和成品率得到很大的提高。