相转变层的形成方法及使用该相转变层的相转变存储器件的制造方法

摘要

本文公开了一种形成不产生接缝的稳定的相转变层的方法以及制造使用所述相转变层的相转变存储器件的方法。在形成相转变层的方法中，相转变层通过实施相转变材料的第一沉积工艺、实施蚀刻工艺以蚀刻相转变材料、以及在经蚀刻的相转变材料上实施相转变材料的第二沉积工艺而形成。蚀刻工艺和第二沉积工艺实施预定次数。