用于形成光电二极管的曝光掩膜及用其制造图像传感器的方法

摘要

本发明披露了一种用于形成图像传感器的光电二极管的曝光掩膜以及使用该曝光掩膜制造图像传感器的方法。用于形成图像传感器的光电二极管的曝光掩膜包括：多个主开口图样，这些主开口图样分别包括矩形形状的第一开口图样和从与第一开口图样的至少一个拐角相邻的预定区域向外凸出的第二开口图样；以及附加凸出开口图样，从与第二开口图样的每个拐角相邻的预定区域向外凸出。